我- A. 电荷质量
- B. 电荷密度
- C. 电荷流量
- D. 电导率
- A. 氧化
- B. 离子注入
- C. 腐蚀
- D. 扩散
- A. 数字信号处理
- B. 非实时性
- C. 微处理器
- D. 数字I/O
- A. 体效应
- B. 衬底效应
- C. 亚阈值效应
- D. 沟道长度调制效应
- A. 速度比较慢
- B. 低密度
- C. 低功耗
- D. 低成本
- A. 发射极（N阱）
- B. 发射极（P+注入物）
- C. 集电极（P型衬底）
- D. 集电极（N型衬底）
- A. 参数复制法
- B. 有源器件
- C. 图形复制法
- D. 无源器件
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