- 正确
- 错误
- 正确
- 错误
- 正确
- 错误
- A.镜片
- B.镜圈
- C.零件
- D.套管
- A.实际尺寸
- B.要求尺寸
- C.预想尺寸
- D.制作尺寸
- A.正柱面透镜
- B.正透镜
- C.负透镜
- D.负柱面透镜
- A.紧固钳
- B.托叶钳
- C.圆嘴钳
- D.鼻梁钳
- 15
-
鼻托过高,会造成( )。
- A.镜架滑落
- B.鼻梁压痛
- C.镜架位置过高
- D.镜架位置过低
- A.蒙耐尔
- B.白铜
- C.K金
- D.钛材
- A.圆嘴钳
- B.镜腿钳
- C.鼻托钳
- D.托叶钳
- A.镜片未夹正或水泵损坏
- B.砂轮损坏或机器内部设置参数错乱
- C.水嘴不喷水会机器内部设置参数错乱
- D.机头不平衡或机器内部设置参数错乱
- A.不可移动模板的等高线
- B.可移动模板的中心位置
- C.不可移动模板的中心位置
- D.可移动模板的光心位置
- A.低速抛光机
- B.中速抛光机
- C.高速抛光机
- D.超高速抛光机
- A.62
- B.136
- C.54
- D.72
- A.内
- B.外
- C.上
- D.下
- A.制模
- B.调温度
- C.压型
- D.模压
- A.+1.00DS
- B.+2.00DS
- C.+3.00DS
- D.+4.00DS
- A.顶焦度
- B.规格尺寸
- C.镜架光洁度
- D.光学中心
- A.小;大
- B.大;小
- C.小;小
- D.大;小
- A.粗磨
- B.细磨
- C.精磨
- D.抛光
- 28
-
在渐进镜片中( )。
- A.下加光度位于颞侧隐性小刻印下方
- B.下加光度位于鼻侧隐性小刻印上方
- C.远用参考圈位于颞侧隐性小刻印上方
- D.远用参考圈位于鼻侧隐性小刻印下方
- A.脱色
- B.生锈
- C.断裂
- D.焦损
- A.3.61△B56.31°
- B.3.61△B123.69°
- C.3.61△B326.31°
- D.3.61△B303.69°
- A.100%
- B.50%
- C.75%
- D.25%
- A.调节左导轮调节钮
- B.调整导轮距离
- C.确定导轮定位方式
- D.确定开槽方向
- A.左右眼镜片外切两垂直线间距
- B.左右眼镜片外切两水平线间距
- C.左右眼镜片边缘之间的最短距离
- D.镜架几何中心距离
- A.倾斜角过大
- B.身腿倾斜角过大
- C.垂俯角过大
- D.外张角过大
- A.成135°夹角
- B.成45°夹角
- C.平行
- D.垂直
- 36
-
材料的塑性指标是( )。
- A.应力和抗力
- B.疲劳极限和膨胀系数
- C.延伸率和断面收缩率
- D.弹性模量和布氏硬度
- A.左右眼镜片外切两垂直线间距
- B.左右眼镜片外切两水平线间距
- C.左右眼镜片边缘之间的最短距离
- D.镜架几何中心距离
- A.扫描器探头没有置入镜架槽内
- B.镜框接头处有错位或缝隙,镜架鼻托阻挡扫描针
- C.样板边缘上有不规则毛刺
- D.镜架太小
- 39
-
复曲面的特点是( )。
- A.在互相垂直的两个平面的曲率不同
- B.在互相垂直的两个平面的曲率相同
- C.所有平面的曲率都一样
- D.所有平面的曲率都不一样
- A.鼻架;镜片
- B.鼻梁;鼻架
- C.镜片;鼻架
- D.镜片;镜片
- A.合成树脂
- B.玻璃
- C.树脂
- D.PC
- A.光学中心
- B.几何中心
- C.鼻侧和上侧
- D.鼻侧或上侧
- A.选择好的镜架
- B.调整好的镜架
- C.塑料镜架
- D.金属镜架
- A.将鼻托向下拉,并且加大鼻托间距
- B.将鼻托向上拉,并且减小鼻托间距
- C.将鼻托向下拉,鼻托间距不动
- D.将鼻托向上拉,鼻托间距不动
- A.镜架几何中心距
- B.眼镜距
- C.光学中心水平距离
- D.光学中心垂直距离
- A.从而导致加工能力降低甚至无法工作
- B.将导致镜片光心移位
- C.将导致砂轮磨损
- D.从而影响观察视线
- A.以顾客为中心原则
- B.以员工为中心原则
- C.以组织为中心原则
- D.以领导为中心原则
- A.顶焦度
- B.规格尺寸
- C.镜架光洁度
- D.光学中心
- A.+3.00D曲折力之减弱,矫正镜顶焦度需增加+3.00D
- B.+2.00D曲折力之增加,矫正镜顶焦度需减少+2.00D
- C.+3.00D曲折力之减弱,矫正镜顶焦度需减少+3.00D
- D.+2.00D曲折力之增加,矫正镜顶焦度需增加+2.00D
- 50
-
散光眼依成因分为( )。
- A.不规则散光、残余散光、全散光
- B.规则散光、残余散光、全散光
- C.角膜散光、残余散光、全散光
- D.斜向散光、残余散光、全散光